PDC-002等離子清洗機(jī)包含PAC、PPC、HPC和SCE，可以滿足實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)的應(yīng)用、從低溫處理到帶冷卻處理的應(yīng)用、從鋁質(zhì)腔體到石英腔體的應(yīng)用、從簡單緊湊的設(shè)備到可以通過軟件進(jìn)行延展的應(yīng)用，等等。該等離子清洗機(jī)，作為蝕刻系統(tǒng)，主要用在工廠和實(shí)驗(yàn)室中。該系列等離子清洗機(jī)目前有三種類型，都集成了相應(yīng)的的數(shù)字控制功能，并且都有一個(gè)額外的模擬電源控制功能從而提供了一個(gè)更廣的等離子功率范圍。還提供水冷卻裝置，可以有效吸收等處理氣體等離子化所產(chǎn)生的熱量。

　　等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域，該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng)，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多種領(lǐng)域，包括化工、材料和電機(jī)，因此將具備一定的挑戰(zhàn)性，也充滿機(jī)會，由于半導(dǎo)體和光電材料在未來得快速成長，此方面應(yīng)用需求將越來越大。

　　等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、業(yè)態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態(tài)存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱位物質(zhì)的第四態(tài)。

　　PDC-002等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)，就沒有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外，等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上，而且是產(chǎn)品提升的關(guān)鍵技術(shù)，比如說光學(xué)元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機(jī)械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步，才能開發(fā)完成。