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  • Minilock-Orion III PECVDPECVD沉積
    Minilock-Orion III PECVDPECVD沉積

    PECVD沉積可選配一個三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,從而控制薄膜應力。

    更新時間:2024-06-17型號:Minilock-Orion III PECVD瀏覽量:2314
  • Trion Orion III PECVDTrion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)
    Trion Orion III PECVDTrion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)

    Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺上生產高品質的薄膜。*的反應器設計可以在在極低的功率生產具有優(yōu)異臺階覆蓋的低應力薄膜。該系統(tǒng)可以滿足實驗室和中試生產環(huán)境中的所有安全,設施和工藝標準要求。

    更新時間:2019-01-15型號:Trion Orion III PECVD瀏覽量:1407
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