PECVD沉積
簡要描述:PECVD沉積可選配一個(gè)三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,從而控制薄膜應(yīng)力。
產(chǎn)品型號(hào): Minilock-Orion III PECVD
所屬分類:PECVD沉積
更新時(shí)間:2024-06-17
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
詳情介紹
PECVD沉積
Minilock-Orion III是一套zui xian jin的等離子增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)。 系統(tǒng)的下電極尺寸可為200mm或300mm,且根據(jù)電極配置,可以處理單個(gè)基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批處理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。
Minilock-Orion III用于有毒/發(fā)火PECVD工藝。沉積薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、無定形硅和碳化硅。工藝氣體:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮、*基硅烷和甲烷。
該系統(tǒng)可選配一個(gè)三極管(Triode)或電感耦合等離子(ICP)源。三極管源使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子,從而控制薄膜應(yīng)力。
基片通過預(yù)真空室裝入工藝室,其避免了與工藝室以及任意殘余沉積副產(chǎn)品接觸,從而提高了用戶的安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下,從而保持反應(yīng)室與大氣隔絕。