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薄膜反射儀主要用于建筑節(jié)能領(lǐng)域外墻熱反射涂料、節(jié)能玻璃、油漆、金屬等材料的現(xiàn)場(chǎng)太陽(yáng)反射比測(cè)量，同時(shí)也適用于涂料、油漆等材料的配方研發(fā)及生產(chǎn)測(cè)試，可以同時(shí)面向工程現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)和實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)。具有性價(jià)比高，測(cè)量快速、準(zhǔn)確，操作簡(jiǎn)單，攜帶方便等特點(diǎn)，配...

濕法刻蝕系統(tǒng)工藝主要包括三部分：硫酸、硝酸、氫氟酸氫氧化鉀氫氟酸本工藝過(guò)程中，硝酸將硅片背面和邊緣氧化，形成二氧化硅，氫氟酸與二氧化硅反應(yīng)生成絡(luò)合物六氟硅酸，從而達(dá)到刻蝕的目的?？涛g之后經(jīng)過(guò)KOH溶液去除硅片表面的多孔硅，并將從刻蝕槽中攜帶...

濕法制粒(wetgranulation)是在藥物粉末中加入液體粘合劑，靠粘合劑的架橋或粘結(jié)作用使粉末聚結(jié)在一起而制備顆粒的方法。由于濕法制粒的產(chǎn)物具有外形美觀、流動(dòng)性好、耐磨性較強(qiáng)、壓縮成形性好等優(yōu)點(diǎn)，在醫(yī)藥工業(yè)中的應(yīng)用廣泛。而對(duì)于熱敏性、...

AT-400原子層沉積是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍?cè)诨妆砻娴姆椒?。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原了層沉積過(guò)程中，新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的，這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。原子層淀積（AL...

熱重分析質(zhì)譜儀就是將熱重分析儀（TGA）與質(zhì)譜儀聯(lián)用，可以檢測(cè)到非常低含量的雜質(zhì)，這一手段越來(lái)越受歡迎。然而，在實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)時(shí)，TG-MS聯(lián)用會(huì)因多重反應(yīng)同時(shí)發(fā)生或者高質(zhì)量離子掩蓋低質(zhì)量的而使結(jié)果變得混亂復(fù)雜。在此體系中加入氣相（GC），多重反...

基本型等離子清洗機(jī)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來(lái)達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子...

去膠工藝是微加工工藝過(guò)程中一個(gè)非常重要的工藝環(huán)節(jié)。在光刻工藝之后，我們往往需要面臨顯影后的底膠去除或者干法蝕刻工藝后變性的光刻膠的去除工作，這些環(huán)節(jié)中光刻膠去除的是否干凈*以及對(duì)樣片是否有損傷等將直接影響到后續(xù)工藝的進(jìn)行以及器件的性能。微波...

氣體流量混合器在工業(yè)和科學(xué)上都有重要的意義。流量測(cè)量是一門迅速發(fā)展的技術(shù)，為了滿足各行各業(yè)、各種工況的各種流體的流量測(cè)量需要，儀表研究機(jī)構(gòu)研究開(kāi)發(fā)了各種原理的流量計(jì)，制造廠每年都有新型流量計(jì)供應(yīng)市場(chǎng)。流量計(jì)是工業(yè)測(cè)量中重要的儀表之一。需要測(cè)...

激光二極管測(cè)試儀器是針對(duì)二極管分選設(shè)備而專門設(shè)計(jì)配套的智能型測(cè)試儀器，主要用于二極管在恒定電流時(shí)其兩端的正向電流電壓，反向恒壓時(shí)測(cè)量其反向漏電流。儀器也可以用作一般直流電壓源、電流源使用，因此是一種多功能、多用途的實(shí)驗(yàn)室儀器。儀器精度高速度...

靜態(tài)滴膠就是簡(jiǎn)單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應(yīng)根據(jù)光刻膠的粘度和基片的大小來(lái)確定。粘度比較高和/或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉(zhuǎn)階段整個(gè)基片上都涂到膠。動(dòng)態(tài)滴膠方式是在基片低速...