product center
Related articles
簡要描述:基本型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗程度達到分子級。
產(chǎn)品型號: PDC-32G-2
所屬分類:基本型等離子清洗機
更新時間:2024-06-17
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵,工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗程度達到分子級。
基本型等離子清洗機廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
基本型等離子清洗機應(yīng)用:
1. 高分子材料表面修飾。
2. 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
7. 清洗沉積凝膠的基片。
8. 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
9. 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的
粘和力。
基本型等離子清洗機主要特點:
1. 緊湊臺式設(shè)備、沒有RF放射、符合CE安全標準。
2. 功率為低、中、高三檔可調(diào)。
3. 基本型:
- 清洗腔:長6.5英寸,直徑3英寸,腔蓋可拆卸;
- RF線圈zui大施加功率18W;
- 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力;
- 整機尺寸:8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D;
- 重量:13 lbs;
4. 選配件
- 石英等離子清洗腔;
- 氣體流量混合器;
- 真空泵;
參考客戶:
蘭州大學(xué) 鄭州大學(xué) 上海交通大學(xué) 上海復(fù)旦大學(xué) 合肥工業(yè)大學(xué) 成都電子科技大學(xué) 北京大學(xué) 清華大學(xué)
醫(yī)工所 蘭州化物所 中科院納米所 等等
我公司專業(yè)銷售Harrick Plasma產(chǎn)品,并提供Harrick Plasma產(chǎn)品的售前售后服務(wù),如您對Harrick Plasma產(chǎn)品感興趣,歡迎前來咨詢!German First-Nano System (HK)Limited